Файл:Lithographie EUV.jpg

Нет версии с бо́льшим разрешением.

Lithographie_EUV.jpg (422 × 417 пкс, размер файла: 51 КБ, MIME-тип: image/jpeg)

Описание

Описание изображения
Описание	Extreme Ultra-violet (EUV) technology with reflection masks permits lithography of 45nm features
Источник	Nanocomputers and Swarm Intelligence, Jean-Baptiste Waldner, ISTE, London, 2007, ISBN 9781847040022
Время создания	2007-06
Автор или правообладатель	JB Waldner — Лицензия: CC BY-SA 3.0 (Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0) http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/
Другие версии файла	—

Источник файла — сайт Wikimedia Commons, куда он был загружен под одной из свободных лицензий ( https://commons.wikimedia.org/wiki/File:Lithographie_EUV.jpg ). Авторов, работавших над этим файлом см. в истории файла: https://commons.wikimedia.org/w/index.php?title=File:Lithographie_EUV.jpg&action=history

В общем случае в статьях энциклопедии Руниверсалис файлы используются в соответствии со статьёй 1274 Гражданского кодекса Российской Федерации.

Нажмите на дату/время, чтобы увидеть версию файла от того времени.

	Дата/время	Миниатюра	Размеры	Участник	Примечание
текущий	17:23, 14 ноября 2023		422 × 417 (51 КБ)	Я, робот (обсуждение \| вклад)	== Описание == {{Изображение \| описание = Extreme Ultra-violet (EUV) technology with reflection masks permits lithography of 45nm features \| источник = Nanocomputers and Swarm Intelligence, Jean-Baptiste Waldner, ISTE, London, 2007, [https://commons.wikimedia.org/wiki/Special:BookSources/9781847040022 ISBN 9781847040022] \| время создания = 2007-06 \| автор = JB Waldner — Лицензия: CC BY-SA 3.0 (Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0) http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ }} Ист...

Вы не можете перезаписать этот файл.

Следующий файл является дубликатом этого файла (подробности):

Следующая страница использует этот файл: