Перейти к содержанию

Файл:Ion implanter schematic-ru.svg

Материал из энциклопедии Руниверсалис

Исходный файл (SVG-файл, номинально 656 × 635 пкс, размер файла: 34 КБ)

Описание

Описание изображения
Описание Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Ual and Ud. Image created using Tgif.
Источник File:Ion implanter schematic.png by Daniel Schwen
Время создания 2020-04-26
Автор или правообладатель Д.Ильин: vectorization, translation — Лицензия: CC0 (Creative Commons Zero, Public Domain Dedication) http://creativecommons.org/publicdomain/zero/1.0/deed.en
Другие версии файла

Источник файла — сайт Wikimedia Commons, куда он был загружен под одной из свободных лицензий ( https://commons.wikimedia.org/wiki/File:Ion_implanter_schematic-ru.svg ). Авторов, работавших над этим файлом см. в истории файла: https://commons.wikimedia.org/w/index.php?title=File:Ion_implanter_schematic-ru.svg&action=history

В общем случае в статьях энциклопедии Руниверсалис файлы используются в соответствии со статьёй 1274 Гражданского кодекса Российской Федерации.

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы увидеть версию файла от того времени.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий18:48, 11 октября 2023Миниатюра для версии от 18:48, 11 октября 2023656 × 635 (34 КБ)I, Robot (обсуждение | вклад)== Описание == {{Изображение | описание = Schematics of an mass separating [https://en.wikipedia.org/wiki/ion_implantation implantation]/[https://en.wikipedia.org/wiki/ion_beam_deposition deposition] setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>al</sub> and U<sub>d</sub>. Image created using Tgif. | источник = [https://commons.wikimedia.org/wiki/File:Ion_implanter_schematic.png File:Ion implanter schematic.png] by [https://commons.wikimedia.org/wiki/User:Dschwe...

Следующая страница использует этот файл:

Метаданные