Перейти к содержанию
🌲 С 2026 годом! 🥂
Пусть он будет победным! 🌟

Файл:High-k.svg

Материал из энциклопедии Руниверсалис

Исходный файл (SVG-файл, номинально 401 × 235 пкс, размер файла: 8 КБ)

Описание

Описание изображения
Описание Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc.
Источник File:High-k.png
Время создания 2006-01-05, 2008-01-14
Автор или правообладатель en:User:Anoopm, traced by User:Stannered — Лицензия: CC BY-SA 3.0 (Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0) http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/
Другие версии файла

Источник файла — сайт Wikimedia Commons, куда он был загружен под одной из свободных лицензий ( https://commons.wikimedia.org/wiki/File:High-k.svg ). Авторов, работавших над этим файлом см. в истории файла: https://commons.wikimedia.org/w/index.php?title=File:High-k.svg&action=history

В общем случае в статьях энциклопедии Руниверсалис файлы используются в соответствии со статьёй 1274 Гражданского кодекса Российской Федерации.

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы увидеть версию файла от того времени.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий03:12, 23 октября 2023Миниатюра для версии от 03:12, 23 октября 2023401 × 235 (8 КБ)Я, робот (обсуждение | вклад)== Описание == {{Изображение | описание = Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. | источник = [https://commons.wikimedia.org/wiki/File:High-k.png File:High-k.png] | время создания = 2006-01-05, 2008-01-14 | автор = [https://en.wikipedia.org/wiki/User:Anoopm en:User:Anoopm], traced by [https://commons.wikimedia.org/wiki/User:Stannered User:St...

Следующий файл является дубликатом этого файла (подробности):

Следующая страница использует этот файл:

Метаданные