Файл:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

Размер этого предпросмотра: 707 × 600 пкс. Другое разрешение: 713 × 605 пкс.

Исходный файл (713 × 605 пкс, размер файла: 80 КБ, MIME-тип: image/jpeg)

Описание

Описание изображения
Описание	EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
Источник	Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
Время создания	1998-03-04
Автор или правообладатель	Lawrence Livermore National Laboratory — Лицензия: Public domain (в общественном достоянии)
Другие версии файла	—

Источник файла — сайт Wikimedia Commons, куда он был загружен под одной из свободных лицензий ( https://commons.wikimedia.org/wiki/File:Extreme_ultraviolet_lithography_tool.jpg ). Авторов, работавших над этим файлом см. в истории файла: https://commons.wikimedia.org/w/index.php?title=File:Extreme_ultraviolet_lithography_tool.jpg&action=history

В общем случае в статьях энциклопедии Руниверсалис файлы используются в соответствии со статьёй 1274 Гражданского кодекса Российской Федерации.

Нажмите на дату/время, чтобы увидеть версию файла от того времени.

	Дата/время	Миниатюра	Размеры	Участник	Примечание
текущий	11:39, 1 мая 2026		713 × 605 (80 КБ)	SubBot (обсуждение \| вклад)

Вы не можете перезаписать этот файл.

Следующий файл является дубликатом этого файла (подробности):

Следующая страница использует этот файл: