Файл:CMOS fabrication process-ru.svg

Материал из энциклопедии Руниверсалис

Исходный файл(SVG-файл, номинально 758 × 1067 пкс, размер файла: 48 КБ)

Показать это изображение на языке

Описание

Описание Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale.
Источник File:CMOS fabrication process.svg by Cmglee
Время создания 2020-05-06
Автор или правообладатель Д.Ильин: translation — Лицензия: CC0 (Creative Commons Zero, Public Domain Dedication) http://creativecommons.org/publicdomain/zero/1.0/deed.en
Другие версии файла

Источник файла — сайт Wikimedia Commons, куда он был загружен под одной из свободных лицензий ( https://commons.wikimedia.org/wiki/File:CMOS_fabrication_process-ru.svg ). Авторов, работавших над этим файлом см. в истории файла: https://commons.wikimedia.org/w/index.php?title=File:CMOS_fabrication_process-ru.svg&action=history

В общем случае в статьях энциклопедии Руниверсалис файлы используются в соответствии со статьёй 1274 Гражданского кодекса Российской Федерации.

История файла

Нажмите на дату/время, чтобы увидеть версию файла от того времени.

Дата/времяМиниатюраРазмерыУчастникПримечание
текущий05:04, 9 августа 2023Миниатюра для версии от 05:04, 9 августа 2023758 × 1067 (48 КБ)I, Robot (обсуждение | вклад)== Описание == {{Изображение | описание = Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale. | источник = [https://commons.wikimedia.org/wiki/File:CMOS_fabrication_process.svg File:CMOS fabrication process.svg] by [https://commons.wikimedia.org/wiki/User:Cmglee Cmglee] | время создания = 2020-05-06 | автор = [https://...

Следующий файл является дубликатом этого файла (подробности):

Следующие 2 страницы используют этот файл:

Метаданные